光刻机近年来逐渐成了一个热门话题，因为大家都开始知道了光刻机的重要性，而且因为目前EUV光刻机只有一家公司可以制造，更让人们对光刻机有了一种神秘感。

其实我们常说的光刻机，尤其是上面提到的EUV光刻机，只是光刻机领域中的一种，虽然只有ASML目前可以生产EUV光刻机，但是ASML却并不能代表全部，事实上，ASML也是孤木难支，它只是在一个垂直领域比较强大。

简单来说，ASML的光刻机，主要市场是用于制造逻辑芯片、存储芯片、通信芯片等，例如CPU、GPU、NPU、SOC、RAM、ROM等芯片。

具体来说，就主要是中央处理器、图形处理器、系统处理器、AI处理器、内存和闪存芯片等。

因为这些芯片跟我们接触较多，所以我们就对ASML的光刻机感触比较深了，但是还有其他类型的光刻机，它们依然很重要。

国产光刻机传来第3个好消息

前段时间国产光刻机方面，已经传来了两个好消息。

第一个，是上海微电子的先进封装光刻机成功交付，或许你对先进封装光刻机了解不多，但是最近苹果发布的M1 Ultra芯片，你应该有所了解。

这颗芯片已经被多个媒体进行解读，这里不再赘述，简单来说，就是性能强大，但是制造工艺却并没有提升，原因就是采用了先进封装。

所以可以看到，用先进封装光刻机，依然可以制造出性能更强的芯片，这也是为何会说ASML不代表全部，它其实是孤木难支。

第二个好消息，是上海微电子的供应商国望光学表示，在2023年，也就是明年就可以交付28纳米以及以下工艺的曝光系统。

这就意味着，上海微电子有望在2023年或2024年量产28纳米及以下工艺的光刻机。

而现在我们又看到了国产光刻机的第三个好消息。

苏大维格iGrapher3000光刻机

好消息来自我国另一种光刻机生产商苏大维格，苏大维格比较低调，想必很多人都不知道，因为它一直以来都是上海微电子的供应商，提供定位光栅部件。

其实苏大维格是首批获得认证的国家高新技术企业之一，虽然一直为上海微电子提供部件，但自己也在研发光刻机，它所研发的光刻机叫作激光直写光刻机。

该光刻机主要应用于柔性电子、MEMS和特殊领域半导体，这里我们就有必要解释一下。

例如所谓的特殊领域半导体，举个例子，例如功率半导体芯片，像我们用的快速充电中的芯片，就属于功率半导体芯片。

而MEMS，简单解释是叫作微机电系统，其中一个重要应用就是生产各类传感器，例如光学传感器、压力传感器、湿度传感器和气体传感器等，属于超精密机械加工。

而最后的柔性电子要更为重要，这是一种新兴电子技术，被美国科学杂志列为十大科技成果之一，与人类基因组草图等并列。

其应用范围非常广泛，可能我们接触较近的，例如柔性显示器。

不要小看一个柔性显示器，要知道欧盟方面为此制定所谓的第七框架计划，投入的科研经费已经达到数十亿欧元。

此外，在柔性电子方面的研发，美国也推出了FDCASU计划，日本推出了TRADIM计划。

由此可见，苏大维格推出的激光直写光刻机的意义其实很大，而这也是我们表示，ASML孤木难支，其不能代表全部的原因。

写在最后

所以我们总的来看，在这三大光刻机领域，近日来我们都看到了相关的好消息出现，各方面我们都在向前推进，因此对于我们国产光刻机的未来，也再次充满了信心。

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