最新资讯!中国将造出EUV光刻机？三年之期将至，我们的进度还好吗？

我国在整体的技术发展上，其实是有相应的缺陷，由于技术实力方面的原因，让我们难以和欧美国家达到持平的水准，在这种运行模式之下，自然也有了一定的限制，但中国毕竟需要有更多的技术发展来进行支撑，不然的我们就很容易会受到限制，在整体发展领域，最为明显的一点就是我国的芯片制造。

在芯片制造上最大的短板就是我们没有办法制造EUV光刻机，而l在之前讨论这一问题的时候，中国也放出狠话，将会在三年的时间中真正的制造出来，现在距离这一时间也已经没有多久了，那么中国的进度怎么样了呢？

关于2023年中国是否能够拥有uv光刻机这一话题，也引发了很多人的讨论，毕竟实力上的成见，让中国有了更多地运用可能，但是能不能够突破EUV方面的限制呢？

我国在芯片制造领域最为短缺的就是光刻机的研制，这项技术一直都被荷兰的ASML公司所控制，在美国对中国实施芯片制裁的那一时段当中，他们也直接对河南下了狠话，不准对中国实施以及提供这样的资源发展。

正是由于这样的运用，才让中国更加难以突破，但毕竟实力发展有所基础，所以中国当时也放出狠话，将会在三年的时间之内就制造出属于我们自己的光刻机。

虽然有狠话放出，但是这一领域并没有这么好突破，要想有更多的优势，也需要有一定的成见，实力上的发展也会有更多的可能性，但也有一点那就是必须和自己的能力相匹配，不然的话就很容易会造成限制，我国在EUV光刻机上的研制进展究竟如何呢？

其实想要完全突破EUV光刻机并不容易，最主要的一点就是我们想要有更小的一些精准度的芯片制造，目前，中国所掌握的EUVv l光刻机制造出的纳米量级比较小。

关于更小的七纳米，14纳米这些都比较难以突破，所以说才容易被美国所拿捏，但随着中国的狠话放出以及中国芯片制造公司的飞速发起，也让世界对于我们有了新的认知。

在这种持续性的呈现之下，我们有了更多的发展可能，而中国虽然说在EUV光刻机上面没有办法达到最小量级，但是我们还有另外一项研究，那就是中国的DUV光刻机。

DUV光刻机对比于之前的传统光刻机来说，有一部分的发展不同，但这也意味着中国可以在这方面进行更好的突破，由于发展形式上的不一样，所以我们就可以有更多的可能，但中国在第一位光刻机上的发展也同样让大家都为他捏了一把汗。

目前看来，根据中国所放出的三年之内拥有光刻机的狠话，也仅仅只有一年多的时间，在这过半的时间当中，中国是否能够创造优势，也有了更多的怀疑。

光刻机的制造是突破芯片发展方面的一大重要抓手，如果有更好呈现的话，优势也更多，但毕竟是其他国家进行了技术封锁的一个领域，所以说在实力呈现上就会有一定的限制。按照这种发展模式看，中国应该是有底气产生，但毕竟和顶尖的光刻机制造还有一定的差距，所以在后续的一年多时间当中，我们也会做整体的推进。

但其实在芯片事业发展上，大家也不必做过多的担心，因为虽然我们在光刻机领域一直受到限制，但是这并不意味着我们毫无运用实力，我们还有光子芯片的发展，这些都意味着我们有一定实力上的展现，毕竟如果没有相应支撑的话，芯片事业就会直接被其他国家所卡脖子，EUV微光刻机的突破并没有这么好实现，但光子芯片就是一种不需要，光刻机来进行支撑的芯片研究方向。

如果单看现在的发展的来看中国的优势也比较明显，但如果想要完全地依靠这一发展领域来进行改变的话，也并没有这么容易。

EUV光刻机的突破，但中国在芯片事业发展上并没有孤注一掷，把所有的希望都放在了光刻机上，我们还有其他研究领域的共同进行三年的时间，看来已经不远了。就目前的发展来看，其实中国应该能够实现这一豪言壮志，毕竟依旧实力有效估计我们已经有所突破，现在需要的是做数据上的提升。