最新资讯!ASML开始“担心”了！中国将造出顶级光刻机，北大院长给出答案！

半导体行业又发生了巨变，日前荷兰官方在致荷兰议员的一封信中表示，鉴于技术发展和地缘政治背景，为了国家安全考虑，有必要扩大对特定半导体制造设备的现有出口管制。

新的出口管制无疑会对荷兰半导体设备企业造成影响，尤其是对光刻机巨头ASML的影响更是巨大的，因为新的出口管制措施包括最先进的DUV，这些措施计划有望在夏季之前实施。

虽然新的提议中并未提及任何国家，但外媒分析认为，荷兰此举是迫于美国施加的压力，目的是为了限制中国半导体产业的发展，因为中国大陆已经成为了ASML的第三大市场。

根据ASML财报显示，2022年该公司共出货345台光刻系统，其中有EUV光刻机仅占该公司出货量的10%，DUV仍是出货主力，而中国大陆占到了总销量的14%。

另外，ASML的所有产品中，有42%销往中国台湾，29%销往韩国，美国市场仅占比7%，所以荷兰应美国要求扩大出口管制，针对中国的目的性是很明确的。

但对于美国方面提出的要求，ASML似乎并不上心，因为早在今年1月底，ASML CEO就直接摊牌了。

ASML CEO温宁壳公开指责美国主导的针对中国的半导体出口管制措施，认为这样会促使中国在高端芯片制造设备领域研发出自己的技术，很显然ASML是开始担心了。

ASML担心也是有原因的，早在2021年的时候，ASML就看清了现实，认为不卖光刻机给中国会倒逼中国进步，不久之后就会造出顶级光刻机。

而对于ASML的担心，北京大学林毅夫院长也给出了肯定答案，林毅夫院长在2021年的中国企业未来发展论坛上表示，短则一两年、长则三五年，国内就有希望突破。

现在两年已经过去了，从已经取得的成绩来看，上海微电子作为国内唯一的光刻机整机厂商，其量产能力已经达到了90nm，推出了第四代ArF光源、波长为193nm的步进投影式光刻机SSA600/20。

接下来，上海微电子的目标是要攻克浸没步进式光刻机，一旦实现突破，那么距离第五代EUV极紫外光源就更进一步了。

不过光刻机还得看应用的类别，光刻机分为前道和后道两类，前道光刻机主要用于IC制造，负责芯片光刻，后道光刻机则负责芯片封装测试环节，保障芯片的良率。

而上海微电子所擅长的主要是后道封测光刻机，当前已经拿下了国内高达80%的市场份额，在全球市场也有40%的份额，即便和ASML也具备一较高下的能力。

可见我国在光刻机领域已经做出了一些成绩，但想要做到ASML那样的水平，实事求是地说，短期内肯定是不可能的，特别是想要达到ASML前道EUV光刻机的水准更是难上加难。

一台EUV光刻机，等于是汇集了全球最顶级的科技，需要多达数十万个零件，且每个重要的零件的背后都有成百上千的专利，并不像组装汽车、手机那样容易。

多的不说，就是最重要的工作台系统、物镜系统、光学系统、搬运系统、对准标记系统等，每一项都是一家全球行业龙头研究了多年的结果，所以光刻机也是全球化的智慧结晶。

因此中国想要造出全球顶级的光刻机，只能说仍需整个产业链共同努力，但ASML的担心也不是没有道理的，从实际情况来看，国产封测光刻机正在大规模交付，一切都值得期待。

面对技术沉淀极高的半导体行业，我们唯有笃定目标勇毅前行，才有希望在这一领域取得成果，也期待国产光刻机能够加速研发的进程，尽早推出全球领先的产品。同意观点请点赞支持。